Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
tarafından
 
Samukawa, Seiji. author.

Başlık
: 
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Yazar
: 
Samukawa, Seiji. author.

ISBN
: 
9784431547952

Basım Bilgisi
: 
1st ed. 2014.

Fiziksel Tanımlama
: 
VIII, 40 p. 35 illus., 30 illus. in color. online resource.

Seri
: 
SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology,

Konu Terimleri
: 
Nanotechnology.
 
Nanoscale science.
 
Nanoscience.
 
Plasma (Ionized gases).
 
Semiconductors.

Tüzel Kişi Ek Girişi
: 
SpringerLink (Online service)

Elektronik Erişim
: 
https://doi.org/10.1007/978-4-431-54795-2


KütüphaneMateryal TürüDemirbaş NumarasıYer Numarası[[missing key: search.ChildField.HOLDING]]Durumu/İade Tarihi
Çevrimiçi KütüphaneE-Kitap489259-1001ONLINEElektronik Kütüphane