Liste görünümüne geç
Küçük resim görünümüne geç
Eylem Seç
4 sonuç bulundu Arama sonuçlarına abone ol
0000DEFAULT_TR
Yazdır
1. 
İyon bombardımanının reaktif DC magnetron kopartma tekniğiyle büyütülen metalik ince filimlerin yapısal ve elektriksel özellikleri üzerindeki etkileri için kapak resmi
İyon bombardımanının reaktif DC magnetron kopartma tekniğiyle büyütülen metalik ince filimlerin yapısal ve elektriksel özellikleri üzerindeki etkileri
Yazar 
Duyar, Özlem.
Yer Numarası 
TEZ/5234 D956 2001
Format: 
Durum 
Beytepe Kütüphanesi~1
Rafta:
Kopya:
2. 
Material characterization using ion beams. Org. by NATO, Aleria, Aug. 29 sept. 12, 1976 için kapak resmi
Material characterization using ion beams. Org. by NATO, Aleria, Aug. 29 sept. 12, 1976
Yazar 
Nato Advanced Study Institude on Material Characterization Using Ion Beams (1976 : Aleria, France). Thomas, J. P., ed. by Cachard, A., ed. by
Yer Numarası 
QC 702.7.B65 N37 1976
Format: 
Durum 
Beytepe Kütüphanesi~1
Rafta:
Kopya:
3. 
Projected range statistics : semiconductors and related material için kapak resmi
Projected range statistics : semiconductors and related material
Yazar 
Ginbbons, James F. Johnson, William S., ort. yaz. Mylroie, W., ort. yaz.
Yer Numarası 
QC 793.3.E5 G5 1975
Format: 
Durum 
Beytepe Kütüphanesi~1
Rafta:
Kopya:
4. 
Ion implantation in semiconductors, silicon and germanium için kapak resmi
Ion implantation in semiconductors, silicon and germanium
Yazar 
Mayer, James W., 1930- Eriksson, Lennart, ort. yaz. Davies, John A., ort. yaz.
Yer Numarası 
TK 7871.85 M38 1970
Format: 
Durum 
Beytepe Kütüphanesi~1
Rafta:
Kopya: