Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Başlık:
Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Yazar:
Hwang, Cheol Seong. editor.
ISBN:
9781461480549
Basım Bilgisi:
1st ed. 2014.
Fiziksel Tanımlama:
X, 263 p. 170 illus., 81 illus. in color. online resource.
İçerik:
Introduction -- Precursors and reaction mechanisms -- ALD simulations -- ALD for mass-production memories (DRAM and Flash) -- ALD for emerging memories -- PcRAM -- FeRAM -- Front end of the line process -- Back end of the line -- ALD machines.
Yazar Ek Girişi:
Tüzel Kişi Ek Girişi:
Elektronik Erişim:
https://doi.org/10.1007/978-1-4614-8054-9Kopya: 1
Rafta:1
Kütüphane  | Materyal Türü | Demirbaş Numarası | Yer Numarası | Durumu/İade Tarihi | Materyal Ayırtma |
|---|---|---|---|---|---|
Çevrimiçi Kütüphane | E-Kitap | 530831-1001 | ONLINE | Elektronik Kütüphane | Rafta |