Liste görünümüne geç
Küçük resim görünümüne geç
Eylem Seç
3 sonuç bulundu Arama sonuçlarına abone ol
000DEFAULT_TR
Yazdır
1. 
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System için kapak resmi
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Yazar 
Samukawa, Seiji. author. SpringerLink (Online service)
Yer Numarası 
ONLINE
Elektronik Erişim 
https://doi.org/10.1007/978-4-431-54795-2
Format: 
Durum 
Çevrimiçi Kütüphane~1
Rafta:
Kopya:
2. 
Safety Factor Profile Control in a Tokamak için kapak resmi
Safety Factor Profile Control in a Tokamak
Yazar 
Bribiesca Argomedo, Federico. author. Witrant, Emmanuel. author. Prieur, Christophe. author. (orcid)0000-0002-4456-2019 SpringerLink (Online service)
Yer Numarası 
ONLINE
Elektronik Erişim 
https://doi.org/10.1007/978-3-319-01958-1
Format: 
Durum 
Çevrimiçi Kütüphane~1
Rafta:
Kopya:
3. 
Solution Precursor Plasma Spray System için kapak resmi
Solution Precursor Plasma Spray System
Yazar 
Sanpo, Noppakun. author. SpringerLink (Online service)
Yer Numarası 
ONLINE
Elektronik Erişim 
https://doi.org/10.1007/978-3-319-07025-4
Format: 
Durum 
Çevrimiçi Kütüphane~1
Rafta:
Kopya: