Liste görünümüne geç
Küçük resim görünümüne geç
2 sonuç bulundu Arama sonuçlarına abone ol
00DEFAULT_TR
Yazdır
1. 
C, H, N and O in Si and Characterization and Simulation of Materials and Processes Proceedings of Symposium N and Symposium G of the 1995 E-Mrs Spring Conference, Held in Strasbourg, France, 22-26 May 1995 için kapak resmi
C, H, N and O in Si and Characterization and Simulation of Materials and Processes Proceedings of Symposium N and Symposium G of the 1995 E-Mrs Spring Conference, Held in Strasbourg, France, 22-26 May 1995
Yazar 
Symposium N on Carbon, Hydrogen, Nitrogen, and Oxygen in Silicon and Other Elemental Semiconductors (1995 : Strasbourg, France) Borghesi, A. Symposium G on Atomic Scale Characterization and Simulation of Materials and Processes (1995 : Strasbourg, France)
Yer Numarası 
ONLINE
Elektronik Erişim 
ScienceDirect http://www.sciencedirect.com/science/book/9780444824134
Format: 
Durum 
Çevrimiçi Kütüphane~1
Rafta:
Kopya:
2. 
Semiconductor silicon crystal technology için kapak resmi
Semiconductor silicon crystal technology
Yazar 
Shimura, Fumio.
Yer Numarası 
ONLINE
Elektronik Erişim 
ScienceDirect http://www.sciencedirect.com/science/book/9780126400458
Format: 
Durum 
Çevrimiçi Kütüphane~1
Rafta:
Kopya:
Go to:Search Results
|
Top of Page
|
Search Facets